【东北大学可转化成果】面向半导体先进制程的耐等离子体刻蚀纳米复相陶瓷

发布者:张鑫发布时间:2026-05-29浏览次数:15

成果简介:氧化钇/氧化镁(Y₂O₃/MgO)纳米复相透明陶瓷是一种通过纳米尺度复合技术制备的新型高性能陶瓷材料。其结合了氧化钇(高透光性、耐高温)和氧化镁(高导热、抗热震)的协同优势,并通过纳米复相结构设计,突破了传统单相陶瓷的性能瓶颈,在极端环境下展现出卓越的综合性能。纳米陶瓷化学稳定性高,在含氟、氯等高活性等离子体环境中腐蚀速率显著低于传统氧化铝(Al₂O₃)陶瓷。实验表明,涂层的刻蚀速率仅为Al₂O₃的1/5,且表面不易生成挥发性副产物(如AlF₃),大幅减少了晶圆污染风险。通过纳米复相技术,进一步提升了材料致密度与抗热冲击性,适用于高功率、高频等离子体环境。作为刻蚀机腔体及视窗材料,涂层可延长设备寿命5倍以上,并提升芯片良率。例如,在7nm以下制程的集成电路制造中,其低污染特性可满足极紫外(EUV)光刻配套需求。通过纳米级晶界调控(晶粒尺寸<100 nm)和掺杂优化,显著降低光散射损失,在中红外波段(1–6 μm)透光率>80%。具有极低的热辐射,在2-6 μm中波红外波段窗口和球罩材料方面应用前景广阔,是未来高马赫数(>3马赫)飞行器红外头罩和窗口的候选材料。

应用领域:新材料

项目成熟度:该项目正处于从小试向中试过渡的关键时期。下一步的发展重点应是解决公斤级及以上批量的制备工艺稳定性问题,并与下游半导体设备商或航空航天研发单位开展应用验证合作,以加速其工程化与产业化进程。

市场前景:氧化钇/氧化镁纳米复相透明陶瓷产业化前景明确,核心瞄准半导体与航空航天两大高端市场。在半导体领域,其卓越的耐等离子体腐蚀特性可将刻蚀机核心部件寿命延长5倍以上,并能显著提升7nm以下先进制程的芯片良率,直击产业升级痛点。在航空航天领域,其中红外高透光与抗热震性能使其成为高马赫数飞行器红外窗口的颠覆性材料。项目已完成关键技术验证,性能超越传统陶瓷,下一步将聚焦于解决规模化生产的工艺稳定性与成本控制问题。虽然面临严格的行业认证壁垒,但其技术壁垒高、替代需求刚性,有望在百亿级的高端特种陶瓷市场中占据高附加值环节,为投资者带来在关键材料领域实现进口替代的战略性机遇。

知识产权情况:专利2项

合作方式:技术许可、技术转让、知识产权作价入股等

对接方式:东北大学科技成果转化办公室

                 电话:024-83671445

                 邮箱:hyz519@163.com

信息来源:东北大学智汇科转公众号